冠亞恒溫半導體溫控Chiller助力半導體材料產(chǎn)業(yè)穩(wěn)定生產(chǎn)
在半導體制造領域,溫度控制的精度和穩(wěn)定性對芯片性能以及生產(chǎn)良率有著直接影響。然而,傳統(tǒng)溫控設備存在能耗較高、精度相對不足以及穩(wěn)定性欠佳等問題,這些問題已然成為制約半導體材料有效生產(chǎn)的關鍵因素。

一、半導體行業(yè)行業(yè)挑戰(zhàn)
一方面,控溫精度不足,在低溫工況下易出現(xiàn)溫度回升現(xiàn)象,可能導致光刻膠形變或研磨液性能波動,進而影響工藝一致性;
另一方面,效率低下,能耗較高,且由于控溫精度不足,可能導致原料浪費與生產(chǎn)成本增加。這些問題已然成為制約半導體材料有效生產(chǎn)的關鍵因素。
冠亞恒溫聚焦半導體行業(yè)的控溫需求,憑借其高精度的溫控解決方案以及創(chuàng)新技術(shù)優(yōu)勢,幫助企業(yè)達成更有效、更穩(wěn)定的生產(chǎn)目標。
二、半導體行業(yè)控溫解決方案
半導體溫控設備Chiller適用于集成電路、半導體顯示等行業(yè),溫控設備可在工藝制程中準確控制反應腔室溫度,是一種用于半導體制造過程中對設備或工藝進行冷卻的裝置,其工作原理是利用制冷循環(huán)和熱交換原理,通過控制循環(huán)液的溫度、流量和壓力,帶走半導體工藝設備產(chǎn)生的熱量,從而實現(xiàn)準確的溫度控制,確保半導體制造過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量。
三、半導體溫控Chiller核心產(chǎn)品
FLTZ變頻單通道Chiller
?介紹應用:應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?溫度范圍:-100℃~+90℃,控溫精度±0.05℃
?技術(shù)亮點:變頻泵可調(diào)整循環(huán)液壓?、流量;智能變頻節(jié)能控制,降低使用能耗;?持?標定制,?持PC遠程控制
FLTZ系列雙通道Chiller
?介紹應用:應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?控溫范圍:-45℃~+90℃,控溫精度:±0.1℃
?技術(shù)亮點:系統(tǒng)支持雙通道獨立控制溫度、流量壓力;采用變頻控溫技術(shù),可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品
FLTZ變頻三通道Chiller
?介紹應用:應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等
?控溫范圍:-20℃~+100℃,控溫精度:±0.1℃
?技術(shù)亮點:三通道整合,支持每個通道獨立控溫范圍、導熱介質(zhì)流量;深化性能開發(fā),匹配刻蝕工藝需求
面板Chiller
?介紹應用:應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等
?控溫范圍:+15~+30℃,控溫精度±0.05℃
?技術(shù)亮點:高揚程設計?持?流量?負載,確保嚴苛?況下持續(xù)穩(wěn)定運?;智能變頻節(jié)能控制,減少?效能耗;符合三通道?藝設計要求,確保信號/流體的獨?傳輸與準確控制
ETCU換熱控溫單元
?介紹應用:應用于PVD、CVD、PECVD、ALD?藝等
?冷卻?溫度范圍:+5℃~+90℃,控溫精度±0.05℃
?技術(shù)亮點:系統(tǒng)?壓縮機,通過換熱降溫;?持?標定制,?持PC遠程控制

四、為什么選擇冠亞恒溫?
1、深耕半導體領域:服務半導體后道生產(chǎn)流程工藝中,覆蓋半導體FAB工藝過程控溫、半導體封測工藝過程控溫。
2、定制化服務能力:依托模塊化平臺,提供標準化與個性化結(jié)合的解決方案。
五、冠亞恒溫半導體溫控Chiller溫控系統(tǒng)技術(shù)優(yōu)勢
1、變頻技術(shù)與節(jié)能:采用變頻技術(shù),結(jié)合精心設計的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和自主開發(fā)的控制算法,能夠準確調(diào)節(jié)壓縮機的輸出頻率。在滿足制程需求的前提下,降低能耗,為企業(yè)節(jié)省運營成本。
2、全密閉式系統(tǒng):采用全密閉設計,有效杜絕油霧和異味產(chǎn)生,延長導熱液體的使用壽命。
3、快速加熱與制冷:參與循環(huán)的導熱液體量少,使得加熱和制冷速度大幅提升。響應速度快,能夠及時適應工藝過程中的溫度調(diào)整需求。
4、模塊化設計:系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,安裝和移動都十分便捷。這種設計使得設備能夠靈活適應不同的生產(chǎn)場地和工藝布局,為企業(yè)節(jié)省空間和安裝成本。
5、智能監(jiān)控與診斷:可同時監(jiān)控、設定和控制流量、泵壓、溫度等參數(shù),實時顯示運行狀態(tài)。設備具備故障自動診斷功能,并擁有多項報警保護功能,能夠提前預警潛在問題,保障生產(chǎn)的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
6、控制重復性與穩(wěn)定性:基于動態(tài)控制系統(tǒng),確保每次控制結(jié)果的一致性,有效提升生產(chǎn)穩(wěn)定性。
7、自適應PID控制:采用自適應PID算法,能夠自動適應不同的環(huán)境和負載條件,無需人工調(diào)整參數(shù),這大大降低了操作難度和維護成本,提高了設備的智能化水平。
溫度控制是半導體制造過程中一項重要的工藝環(huán)節(jié)。冠亞恒溫半導體溫控Chiller憑借技術(shù)創(chuàng)新作為發(fā)展動力,通過提供準確、穩(wěn)定且有效的溫控系統(tǒng),協(xié)助企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)流程,降低資源消耗,推動企業(yè)實現(xiàn)高質(zhì)量的制造生產(chǎn)。

雙通道系列 Dual Channel Chiller
FLTZ系列雙通道Chillers主要用于半導體制程中對反應腔室溫度的精準控制,公司在系統(tǒng)中應用多種算法(PID、前饋PID、無模型自建樹算法),顯著提升系統(tǒng)的響應速度、控制精度和穩(wěn)定性。
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單通道系列 Single Channel Chiller
FLTZ系列單通道Chillers主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制,公司在系統(tǒng)中應用多種算法(PID、前饋PID、無模型自建樹算法),實現(xiàn)系統(tǒng)快速響應、較高的控制精度。
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三通道系列 Triple Channel Chiller
FLTZ系列三通道Chillers主要應用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制,系統(tǒng)支持三個通道獨立控溫,每個通道有獨立的溫度范圍、冷卻加熱能力、導熱介質(zhì)流量等。
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面板系列Panel Chiller
面板系列Chiller應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等,支持?流量?負載,確保極端?況下持續(xù)穩(wěn)定運?;支持冷卻?動態(tài)調(diào)節(jié)系統(tǒng),可根據(jù)環(huán)境溫度與設備熱負荷,實時調(diào)節(jié)?溫。
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