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工業(yè)級變頻冷水機組丨晶圓制造±0.1℃刻蝕/鍍膜工藝用冷卻方案

2025年3月25日 149

晶圓制造±0.1℃刻蝕/鍍膜工藝用冷卻

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半導體chiller在刻蝕工藝中應用的好處

2025年3月14日 197

無錫冠亞半導體Chiller能夠適應不同的刻蝕工藝需求，無論是濕法刻蝕還是干法刻蝕，都能提供所需的溫度控制。

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等離子刻蝕冷卻chiller廠家介紹常見刻蝕工藝類型有哪些？

2025年3月4日 129

刻蝕工藝是半導體制造中用于在硅片上形成微細結構的關鍵步驟，常見的刻蝕工藝類型包括哪些呢？接下來，等離子刻蝕冷卻chiller廠家冠亞恒溫為您介紹： 濕法刻蝕（Wet Etching）：利用化學溶液去除硅片上的材料。這種方法成本較低，適合于較不敏感的工藝...

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刻蝕工藝溫控裝置chiller應用案例

2025年2月26日 130

刻蝕工藝是半導體制造過程中的步驟之一，它涉及使用化學或物理方法去除硅片上的特定材料層。在這個過程中，準確的刻蝕工藝溫控裝置chiller對于確?？涛g質(zhì)量和生產(chǎn)效率比較重要。 案例一：集成電路（IC）制造中的刻蝕 應用描述：在集成電路（IC）...

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