在半導體制造領域，溫度控制的精度和穩(wěn)定性對芯片性能以及生產良率有著直接影響。然而，傳統(tǒng)溫控設備存在能耗較高、精度相對不足以及穩(wěn)定性欠佳等問題，這些問題已然成為制約半導體材料有效生產的關鍵因素。

　　一、半導體行業(yè)行業(yè)挑戰(zhàn)

　　一方面，控溫精度不足，在低溫工況下易出現(xiàn)溫度回升現(xiàn)象，可能導致光刻膠形變或研磨液性能波動，進而影響工藝一致性；

　　另一方面，效率低下，能耗較高，且由于控溫精度不足，可能導致原料浪費與生產成本增加。這些問題已然成為制約半導體材料有效生產的關鍵因素。

　　冠亞恒溫聚焦半導體行業(yè)的控溫需求，憑借其高精度的溫控解決方案以及創(chuàng)新技術優(yōu)勢，幫助企業(yè)達成更有效、更穩(wěn)定的生產目標。

　　二、半導體行業(yè)控溫解決方案

　　半導體溫控設備Chiller適用于集成電路、半導體顯示等行業(yè)，溫控設備可在工藝制程中準確控制反應腔室溫度，是一種用于半導體制造過程中對設備或工藝進行冷卻的裝置，其工作原理是利用制冷循環(huán)和熱交換原理，通過控制循環(huán)液的溫度、流量和壓力，帶走半導體工藝設備產生的熱量，從而實現(xiàn)準確的溫度控制，確保半導體制造過程的穩(wěn)定性和產品質量。

　　三、半導體溫控Chiller核心產品

　　FLTZ變頻單通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?溫度范圍：-100℃~+90℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術亮點：變頻泵可調整循環(huán)液壓?、流量；智能變頻節(jié)能控制，降低使用能耗；?持?標定制，?持PC遠程控制

　　FLTZ系列雙通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?控溫范圍：-45℃~+90℃，控溫精度：±0.1℃

　　?技術亮點：系統(tǒng)支持雙通道獨立控制溫度、流量壓力；采用變頻控溫技術，可根據(jù)客戶需求定制產品

　　FLTZ變頻三通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?控溫范圍：-20℃～+100℃，控溫精度：±0.1℃

　　?技術亮點：三通道整合，支持每個通道獨立控溫范圍、導熱介質流量；深化性能開發(fā)，匹配刻蝕工藝需求

　　面板Chiller

　　?介紹應用：應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等

　　?控溫范圍：+15~+30℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術亮點：高揚程設計?持?流量?負載，確保嚴苛?況下持續(xù)穩(wěn)定運?；智能變頻節(jié)能控制，減少?效能耗；符合三通道?藝設計要求，確保信號/流體的獨?傳輸與準確控制

　　ETCU換熱控溫單元

　　?介紹應用：應用于PVD、CVD、PECVD、ALD?藝等

　　?冷卻?溫度范圍：+5℃~+90℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術亮點：系統(tǒng)?壓縮機，通過換熱降溫；?持?標定制，?持PC遠程控制

　　四、為什么選擇冠亞恒溫？

　　1、深耕半導體領域：服務半導體后道生產流程工藝中，覆蓋半導體FAB工藝過程控溫、半導體封測工藝過程控溫。

2、定制化服務能力：依托模塊化平臺，提供標準化與個性化結合的解決方案。

　　五、冠亞恒溫半導體溫控Chiller溫控系統(tǒng)技術優(yōu)勢

　　1、變頻技術與節(jié)能：采用變頻技術，結合精心設計的系統(tǒng)結構和自主開發(fā)的控制算法，能夠準確調節(jié)壓縮機的輸出頻率。在滿足制程需求的前提下，降低能耗，為企業(yè)節(jié)省運營成本。

　　2、全密閉式系統(tǒng)：采用全密閉設計，有效杜絕油霧和異味產生，延長導熱液體的使用壽命。

　　3、快速加熱與制冷：參與循環(huán)的導熱液體量少，使得加熱和制冷速度大幅提升。響應速度快，能夠及時適應工藝過程中的溫度調整需求。

　　4、模塊化設計：系統(tǒng)結構緊湊，占地面積小，安裝和移動都十分便捷。這種設計使得設備能夠靈活適應不同的生產場地和工藝布局，為企業(yè)節(jié)省空間和安裝成本。

　　5、智能監(jiān)控與診斷：可同時監(jiān)控、設定和控制流量、泵壓、溫度等參數(shù)，實時顯示運行狀態(tài)。設備具備故障自動診斷功能，并擁有多項報警保護功能，能夠提前預警潛在問題，保障生產的連續(xù)性和穩(wěn)定性。

　　6、控制重復性與穩(wěn)定性：基于動態(tài)控制系統(tǒng)，確保每次控制結果的一致性，有效提升生產穩(wěn)定性。

　　7、自適應PID控制：采用自適應PID算法，能夠自動適應不同的環(huán)境和負載條件，無需人工調整參數(shù)，這大大降低了操作難度和維護成本，提高了設備的智能化水平。

溫度控制是半導體制造過程中一項重要的工藝環(huán)節(jié)。冠亞恒溫半導體溫控Chiller憑借技術創(chuàng)新作為發(fā)展動力，通過提供準確、穩(wěn)定且有效的溫控系統(tǒng)，協(xié)助企業(yè)優(yōu)化生產流程，降低資源消耗，推動企業(yè)實現(xiàn)高質量的制造生產。

雙通道系列 Dual Channel Chiller

FLTZ系列雙通道Chillers主要用于半導體制程中對反應腔室溫度的精準控制，公司在系統(tǒng)中應用多種算法（PID、前饋PID、無模型自建樹算法），顯著提升系統(tǒng)的響應速度、控制精度和穩(wěn)定性。

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單通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列單通道Chillers主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，公司在系統(tǒng)中應用多種算法（PID、前饋PID、無模型自建樹算法），實現(xiàn)系統(tǒng)快速響應、較高的控制精度。

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三通道系列 Triple Channel Chiller

FLTZ系列三通道Chillers主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，系統(tǒng)支持三個通道獨立控溫，每個通道有獨立的溫度范圍、冷卻加熱能力、導熱介質流量等。

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等，支持?流量?負載，確保極端?況下持續(xù)穩(wěn)定運?；支持冷卻?動態(tài)調節(jié)系統(tǒng)，可根據(jù)環(huán)境溫度與設備熱負荷，實時調節(jié)?溫。

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