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某3D封裝芯片測(cè)試中,熱流罩以±0.2℃精度完成循環(huán),TSV結(jié)構(gòu)零失效。
查看全文無(wú)錫冠亞半導(dǎo)體Chiller能夠適應(yīng)不同的刻蝕工藝需求,無(wú)論是濕法刻蝕還是干法刻蝕,都能提供所需的溫度控制。
查看全文在這個(gè)專屬女性的節(jié)日里, 冠亞恒溫為每一位閃閃發(fā)光的“她” 準(zhǔn)備了心意滿滿的福利 愿妳被時(shí)光溫柔以待,綻放光芒 冠亞恒溫·節(jié)日福利 這個(gè)三月,把寵愛寫在細(xì)節(jié)里?? 愿每一位努力生活的你, 都能在冠亞恒溫大家庭里, 收獲溫暖、自信與...
查看全文封裝測(cè)試領(lǐng)域溫控chiller在刻蝕工藝中的應(yīng)用是重要的,因?yàn)樗鼈儙椭S持刻蝕設(shè)備和過(guò)程中的溫度穩(wěn)定性,以下是Chiller在刻蝕工藝中的一些具體應(yīng)用: 1. 維持恒定的設(shè)備運(yùn)行溫度 功能:封裝測(cè)試領(lǐng)域溫控chiller通過(guò)循環(huán)冷卻水來(lái)降低刻蝕設(shè)備產(chǎn)生的...
查看全文刻蝕工藝是半導(dǎo)體制造中用于在硅片上形成微細(xì)結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟,常見的刻蝕工藝類型包括哪些呢?接下來(lái),等離子刻蝕冷卻chiller廠家冠亞恒溫為您介紹: 濕法刻蝕(Wet Etching):利用化學(xué)溶液去除硅片上的材料。這種方法成本較低,適合于較不敏感的工藝...
查看全文光刻工藝是半導(dǎo)體制造中其中溫度控制對(duì)于確保光刻膠的均勻性和光刻過(guò)程的穩(wěn)定性影響比較大。以下是一些光刻工藝中溫度控制Chiller的應(yīng)用案例: 案例一:光刻膠儲(chǔ)存和處理的溫度控制 應(yīng)用描述:光刻膠對(duì)溫度非常敏感,其化學(xué)活性和粘度會(huì)隨溫度變...
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